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  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "化學工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="鋁"


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    低溫鋁擴散於氫化非晶矽層形成p型膜層及氫化氮化矽應用於矽晶片鈍化之研究
    • /98/ 碩士
    • 研究生: 徐俊硯 指導教授: 洪儒生
    • 本論文第一部分探討金屬鋁層與氫化非晶矽層接合後, 在低溫下鋁擴散進入非晶矽層形成 p 型膜的現象。研究發現, 當擴散溫度 200℃、擴散時間大於 30 分鐘,p 型膜層呈現微 晶化的結構,其導電率可…
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    • 全文公開日期 2015/07/30 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    低溫鋁擴散進入非晶矽形成P型層的技術及其在矽晶異質接合太陽能電池的製作應用
    • /100/ 碩士
    • 研究生: 沈子堯 指導教授: 洪儒生
    • 本研究係利用一低溫鋁擴散於非晶矽膜層使其形成p型多晶矽層之技 術,作為矽晶異質接合太陽電池製作之應用。以此技術製備p型膜層的實 驗結顯示,沉積厚度為30nm的非晶矽層與20nm厚的濺鍍鋁層接觸並經 …
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